對(duì)于鑄鐵段表面及近表面的缺陷檢測(cè)，主要技術(shù)為液體滲透檢測(cè)、渦流檢測(cè)、磁粉檢測(cè)。

對(duì)于鑄鐵段內(nèi)部缺陷的檢測(cè)，常用的方法是射線檢測(cè)和超聲檢測(cè)。

1、液體滲透檢測(cè)

原理：滲透劑在毛細(xì)管作用下，滲入表面開(kāi)口缺陷內(nèi)，在去除工件表面多余的滲透劑后，通過(guò)現(xiàn)象級(jí)的毛細(xì)管作用將缺陷內(nèi)的滲透劑吸附到工件表面形成痕跡而顯示缺陷的存在。

需注意的是滲透檢測(cè)的準(zhǔn)確度隨被檢測(cè)材料的表面粗糙度增加而降低，即表面越光檢測(cè)效果越好，磨床磨光的表面檢測(cè)準(zhǔn)確度高，甚至可以檢測(cè)出晶間的裂紋。

除著色檢測(cè)外，熒光滲透檢測(cè)也是常用的液體滲透檢測(cè)方法，他需要配置紫外線光進(jìn)行照射觀察，檢測(cè)靈敏度比著色檢測(cè)高，并且因?yàn)椴恍枰却@影劑充分晾干，所以熒光滲透探傷效率更高。

2、渦流檢測(cè)

渦流檢測(cè)適用于檢查表面以下一般不大于6~7mm深的缺陷。

渦流檢測(cè)分放置式線圈法和穿過(guò)式線圈法2中。

原理：

當(dāng)試件被放在通有交變電流的線圈附近時(shí)，進(jìn)入試件的交變磁場(chǎng)可在試件中感生出方向與激勵(lì)磁場(chǎng)相垂直的，呈渦流狀流動(dòng)的電流（渦流），渦流會(huì)產(chǎn)生一與激勵(lì)磁場(chǎng)方向相反的磁場(chǎng)，使線圈中的原磁場(chǎng)有部分減少，從而引起線圈阻抗的變化。

如果鑄件表面存在缺陷，則渦流的電特征會(huì)發(fā)生畸變，從而檢測(cè)出缺陷的存在。

優(yōu)點(diǎn)：

1）對(duì)小裂紋和其他缺陷的敏感性

2）檢測(cè)表面和近表面缺陷速度快，靈敏度高

3）檢驗(yàn)結(jié)果是即時(shí)性的

4）設(shè)備接口性好

5）僅需要做很少的準(zhǔn)備工作

6）測(cè)試探頭不需要接觸被測(cè)物

7）可檢查形狀尺寸復(fù)雜的導(dǎo)體

缺點(diǎn)：

不能主觀顯示出探測(cè)出的缺陷大小和行政，一般只能確定出缺陷所在的位置和深度，另外，它對(duì)工件上校的開(kāi)口缺陷的檢出靈敏度不如滲透探傷。

3、磁粉檢測(cè)

在鑄件一定范圍內(nèi)產(chǎn)生磁場(chǎng)時(shí)，磁化區(qū)域內(nèi)的缺陷會(huì)產(chǎn)生漏磁場(chǎng)，當(dāng)撒上磁粉或懸浮液時(shí)，磁粉被吸住，這樣就會(huì)形成磁痕顯示缺陷。

磁粉應(yīng)用特點(diǎn)：

1）可檢測(cè)裂紋、夾夾雜、發(fā)紋、折疊、白點(diǎn)、冷隔、疏松等缺陷，缺陷顯示直觀；

2）檢測(cè)靈敏度高，檢出缺陷寬度克制μm級(jí)；

3）只要采用合適磁化方式，幾乎不受工件尺寸和形狀的限制；

4）檢測(cè)設(shè)備和工藝較簡(jiǎn)單，檢測(cè)速度快，費(fèi)用較低；

5）只能檢測(cè)鐵磁材料工件表面或近表面缺陷；

6）檢測(cè)靈敏度與磁化方向等因素有關(guān)；

7）大多數(shù)情況下，工件檢測(cè)后須進(jìn)行退磁。

需注意的是，磁粉顯示的缺陷基本上都是橫切磁力線的缺陷，對(duì)于平行于磁力線的長(zhǎng)條形確信則顯示不出來(lái)，為此，操作時(shí)需要不斷改變磁化方向，以保證能夠檢查出未知方向的各個(gè)缺陷。

4、射線檢測(cè)

原理：

當(dāng)工件至于射線場(chǎng)照射時(shí)，射線的輻射強(qiáng)度就會(huì)受到鑄件內(nèi)部缺陷的影響。

穿過(guò)鑄件射出的輻射強(qiáng)度隨著缺陷大小、性質(zhì)的不同而局部有變化，形成缺陷的射線圖像，通過(guò)射線膠片予以現(xiàn)象記錄，或者通過(guò)熒光屏予以實(shí)時(shí)檢測(cè)觀察，或者通過(guò)輻射計(jì)數(shù)儀檢測(cè)。

其中通過(guò)射線膠片現(xiàn)象記錄的方法是常用的方法，也就是通常所說(shuō)的射線照相檢測(cè)，射線照相所反映出來(lái)的缺陷圖像是直觀的，缺陷形狀、大小、數(shù)量、平面位置和分布范圍都能呈現(xiàn)出來(lái)，只是缺陷深度一般不能反映出來(lái)，需要采取特殊措施和計(jì)算才能確定。

5、超聲檢測(cè)

原理：

利用高頻聲能的聲束在鑄件內(nèi)部的傳播中，碰到內(nèi)部表面或缺陷產(chǎn)生反射而發(fā)現(xiàn)缺陷。

應(yīng)用：

反射聲能的大小是內(nèi)表面或缺陷的指向性和性質(zhì)以及這種反射體的聲阻抗的函數(shù)，因此可以應(yīng)用各種缺陷或內(nèi)表面反射的聲能來(lái)檢測(cè)缺陷的存在位置、壁厚或者表面下缺陷的深度。

優(yōu)點(diǎn)：

1）檢測(cè)靈敏度高，可以探測(cè)細(xì)小的裂紋；

2）具有大的穿透能力，可以探測(cè)后截面鑄件。

缺點(diǎn)：

1）對(duì)于輪廓尺寸復(fù)雜和指向性不好的斷開(kāi)性缺陷的反射波形解釋困難；

2）對(duì)于不合意的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，例如晶粒大小、組織結(jié)構(gòu)、多孔性、夾雜含量或細(xì)小的分散析出物，同樣方案波形解釋；

3）檢測(cè)時(shí)需要參考標(biāo)準(zhǔn)試塊。

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